如何更快地渲染？深入了解3D渲染性能的指南！（5）

本文Renderbus云渲染农场将继续从渲染设置、全局照明、渲染区域等方面介绍如何提升渲染速度。

渲染设置

调整渲染设置是加快渲染速度的最有效方法之一。

但是，与往常一样，我们不仅要降低质量，还希望尽可能地接近所需的质量，但仍然希望提高渲染性能。

以下是一些可以改善渲染性能的最重要因素：

自适应采样器

对于大多数现代渲染引擎而言，最重要的一件事情就是将它们设置为使用自适应采样器。

关键是：现代渲染引擎极其复杂，并具有确定自身的方法，确定高质量渲染所需的样本数量。

您首先要看的设置是自适应采样器的采样限制。每个引擎在此部分的名称略有不同，但是在Redshift中是这样的：

和Vray：

跨不同渲染引擎的所有这些自适应采样器都具有以下共同点：

• 最小样本

• 最大样本数

• （噪声/错误）阈值

它的工作原理很简单："采样器"会通过每个像素拍摄最少数量的样本，以便对像素具有的颜色进行平均观察。

然后，将其与旁边的像素进行比较，并检查差异（例如，照明）是否太大/太吵。如果差异/噪声/误差大于阈值，则它将通过场景拍摄更多样本，直到其下降到误差阈值以下（为方便起见而简化）。

就那么简单。

因此，即使将"最大采样数"设置为10000，采样器也只会使用其需要降至误差阈值以下的数量。

因此，从技术上讲，您需要在此处进行预览渲染的所有更改就是将阈值增加到0.1，然后将最终渲染增加到0.01。

与往常一样，您将必须进行一些测试，以找到最理想的位置以及您愿意忍受的噪声量。

自适应采样器的功能可确保它仅使用清除图像所需的采样数量。这意味着在光线充足的区域，它仅使用少量样本，例如，在光线较暗的区域，它可以使用更多的样本来消除噪声。

确保使用自适应采样器的功能永远不会使用超出绝对需要数量的样本。

极限射线反弹（跟踪深度）和截止阈值

在"材质"部分，我们已经了解了如何在反射和折射中限制描迹深度，但是在大多数渲染引擎中，您可以全局设置此深度。

这是Redshift的样子：

这背后的想法很简单：我们希望阻止特定的光线反射太多次。通常，我们可以为反射，折射和透明度设置反弹限制。

设置的值越低，允许的反弹越少，场景渲染的速度就越快。这是加快渲染速度的主要因素之一。

但是，当然，如果将此值设置得太低，则会看到一些黑洞或东西从反射，折射和透明区域消失。

对您的每个场景进行一些试验以找到最佳位置。

在上面的图像中，在最大走线深度以下，我们看到了截止阈值，这也可以加快渲染速度。

基本上，这是告诉渲染器仅考虑会在全局场景级别上使像素外观变化超过定义阈值的光线。

设置得越高，将越早忽略或取消光线，从而加快渲染速度。

当然，这里也适用：如果将这些值设置得太高，您将开始在着色器和照明中看到黑色像素或粗糙边缘，因此也可以在此处找到最佳位置。

钳制您的最大射线强度

使用此功能不仅可以加快渲染速度，而且通常还可以消除整个场景中的随机高光像素。

在Redshift（C4D）中：

在Vray（C4D）中：

默认情况下，大多数渲染引擎将允许射线和样本比监视器通常显示的亮度高很多。毕竟，通常光源通常是非常明亮的，这是有道理的。

但是，在大多数情况下，您不会看到强度为2或10的反射光之间没有区别。这两种反射光看起来都是100％白色（或100％亮度）。

当然，如果您产生的反射或折射会吸收90％的入射光，您会看到不同。

但是，在大多数情况下，将射线强度限制为接近1会提高渲染性能，清理随机的明亮像素，而不会太大地改变场景的外观。

去尝试一下，找到你的最佳选择。

视场

任意输出变量，Multi-Pass图像，Render Pass或它们带有的其他名称是与Beauty Render一起创建的图像，通常用于合成和其他后期制作方式。

我很长一段时间都不知道这一点，但是，是的，AOV减慢了实际的渲染阶段。

我的印象是，在渲染过程结束时，AOV仅需要很短的时间存储在我的美容通行证旁边。但是，它们会减慢整个渲染速度。

当然，只有几个渲染通道不会引起注意，但是有10个或更多的拼图遮罩、深度遮罩、对象缓冲区？在许多渲染引擎中，可以将添加到最终渲染中的每个AOV的渲染时间显着增加。

确保确保仅呈现您绝对需要的AOV。